Фоторезист пленочный ПФ-ВЩ-50 (МПФ-ВЩ) 200х150мм ( 5листов в конверте) Толщина св/чувствит.слоя: 50мкм; разреш.способность: 102мкм ,ТУ 6-43-1568-93 оп

Фоторезист плёночный ПФ-ВЩ-50 (МПФ-ВЩ) 200х150мм ( 5листов в конверте) Толщина св/чувствит.слоя: 50мкм; разреш.способность: 102мкм ,

ТУ 6-43-1568-93 оп

Фоторезист плёночный применяется в производстве радиоэлектронной аппаратуры на этапах получения электропроводящих слоёв требуемой конфигурации однослойных или многослойных печатных плат, по негативной или позитивной технологии. Фоторезист представляет собой слой светочувствительного материала, нанесённого на полиэтилентерефталатную плёночную основу. Поверхность светочувствительного слоя защищена полиэтиленовой плёнкой, которая удаляется перед началом работ с фоторезистом. Гальваностойкость экспонированного фоторезиста обеспечивает качественное осаждение слоя металла из электролита c pH менее 7. Химическая стойкость экспонированного фоторезиста обеспечивает обработку в растворах с pH до 10 в течение минуты и более при температуре раствора от +18℃ до +25℃.